東莞凈化工程的無塵室是指將一定空間范圍內(nèi)之空氣中的微粒子、有害空氣、細菌等之污染物排除，并將室內(nèi)之溫度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)，而所給予特別設(shè)計之房間。 無菌室一般是在微生物實驗室內(nèi)專辟一個小房間。可以用板材和玻璃建造。
由于潔凈室內(nèi)的工作內(nèi)容大都有精細的要求，而且又都是密閉性房屋，所以對照明一向有很高的要求。這里有必要先說明一下無窗潔凈室的照明方式：
這是指為增加某一指定地點（如工作點）的照度而設(shè)置的照明。但在室內(nèi)照明由一般不單獨使用局部照明。
隨著半導(dǎo)體IC設(shè)計規(guī)則從1．5~0．25μm的變化，相應(yīng)地超純水的水質(zhì)除電阻率已接近理論極限值外，其TOC(總有機碳)、DO(溶解氧)、Si02、微粒和離子性雜質(zhì)均減少2-4個數(shù)量級。 
東莞凈化工程在當(dāng)前的水處理中，各項雜質(zhì)處理的難易程度依次是TOC、SiO2、DO、電阻率，其中電阻率達到18MΩ·cm(25℃)是當(dāng)前比較容易達到的。由于TOC含量高會使柵氧化膜尤其是薄柵氧化膜中缺陷密度增大，所以柵愈薄要求TOC愈低，況且現(xiàn)在IC技術(shù)的發(fā)展趨勢中，芯片上柵膜越來越薄，故降低TOC是當(dāng)前和今后的最大難點，因而已成為當(dāng)今超純水水質(zhì)的象征和重心。
東莞凈化工程據(jù)了解，在美國芯片廠中，50％以上的成品率損失起因于化學(xué)雜質(zhì)和微粒污染；在日本工廠中由于微粒污染引起器件電氣特性的不良比例，已由2μm的70％上升到0．8μm超大規(guī)模IC的90％以上，可見IC線條寬度越細，其危害越突出。相應(yīng)的在IC封裝過程中超純水的重要性就顯而易見了。